Nanotrac Wave II通過增強的光信號，新穎的探針技術和**的算法為用戶提供了**的顆粒分析能力。無論您的材料是ppm還是接近成品，Wave II都能對亞納米到幾微米范圍內(nèi)的材料進行快速，靈敏和準確的測量。 
Nanotrac Wave II是一種測量系統(tǒng)，用于直接自動測量電泳遷移率和布朗運動以及由此產(chǎn)生的Zeta電勢和粒徑。 
Microtrac MRB是顆粒分析技術的先驅(qū)，開發(fā)DLS系統(tǒng)已有30多年的歷史。Nanotrac Wave II是*新一代的亞微米粒度和Zeta電勢分析儀。Nanotrac Wave II的新的設計提供了可靠的技術，可實現(xiàn)更快的測量速度，小于0.8 nm的粒徑測量，更高的精度和準確性，所有這些都結(jié)合在緊湊的動態(tài)光散射分析儀中，無需移動光學組件。廣泛的軟件包（無許可證）根據(jù)ISO 22412計算分析數(shù)據(jù)，并根據(jù)CFR21 Part 11批準。
Nanotrac系列的測量原理基于180°外差-后向散射布置中的動態(tài)光散射（DLS）。在這種設置中，一部分激光束被添加到散射光中。這就像散射光的光學增強一樣。粒度范圍為0.8至6,500納米。與傳統(tǒng)的DLS相比，Microtrac MRB的參考拍打可將光信號增加100到1,000,000倍。增強的光信號使用戶能夠在市場上*寬的濃度范圍內(nèi)準確測量單模和多模分布。

特征

• 增強的光信號，可對參考拍打提供**的精度
• 獨特的探頭設計，固定的光學器件和180°背向散射采集功能，可在從ppm到接近固體（40％w / v）的*寬濃度范圍內(nèi)進行快速準確的測量
• 無需“先驗”或預先了解粒度分布
• 通過消除電滲流引起的誤差，能夠測量更接近等電點的Zeta電位。ZP測量范圍為-200至+ 200mV
• 用戶可選的數(shù)據(jù)呈現(xiàn)模式：

1. 分布–標準體積粒徑分布
2. 舊版-從“舊版”工具過渡時確保數(shù)據(jù)一致性
3. 模式–同時測量尺寸和濃度

• 可移動樣品池–特氟龍或不銹鋼
• 所需樣品量為150 μl –非常適合高價材料
• 珀爾帖溫度控制裝置
• 多個流通池選項–可以連接滴定儀。

產(chǎn)品優(yōu)勢

• 無需“先驗”粒度分布知識，只需加載材料并運行即可
• 簡便的SOP設置和管理，非常適合跨多個班次管理用戶
• 顯示比色皿和樣品池的清潔度，包括警報和錯誤消息
• 提供多種翻譯語言
• 廣泛的數(shù)據(jù)庫
• 符合FDA 21 CFR Part 11
• 統(tǒng)計分析
• 手動選擇材料的動態(tài)粘度值–確保準確性和一致性（根據(jù)Stokes-Einstein）
• 無需設置零–空白測量內(nèi)置于軟件中
• 用戶收到有關規(guī)范通過或失敗的通知
• 實時或召回的數(shù)據(jù)庫趨勢圖
• 用戶定義的數(shù)據(jù)報告和計算
• 多種數(shù)據(jù)導出選項

電泳：

設置在激光散射光（180°）中，用于濃縮和稀釋的顆粒分散體。通過直接分析布朗運動來分析電泳遷移率，Zeta電位（根據(jù)Smoluchowski）以及粒徑分布的軟件。

ZETA電位范圍：

-200mV bis + 200mV，Zeta電位重復性+/- 1 mV（與PS Latex標準顆粒150至500 nm有關）

應用實例

制藥/生物技術，化學，食品/飲料，塑料/聚合物，涂料/覆蓋層，油墨，粘合劑，學術研究